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Die homogene Beschichtung von Substraten mit widerstands-fähigen Maskenmaterialien ist ein Schlüsselschritt in der Halbleitertechnologie. Dieses Buch befasst sich mit dem ökonomisch vorteilhaften Spin-Coating-Verfahren zur Applikation von geeigneten Zirkoniumdioxid-Schichten auf 300 mm Silizium-Wafern. Ausgehend von flüssigen Solen werden über Sol-Gel-Transformation feste Schichten erhalten, deren Eigenschaften für die Anwendung einstellbar sind. Mittels der entwickelten Beschichtungsstrategien... Mehr